半导体高温烤箱
用于精密电子元件、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，箱内空气封闭自循环，经耐高温高效空气过滤器（100级）反复过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态

半导体高温烤箱

应用于精密电子元件、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，箱内空气封闭自循环，经耐高温高效空气过滤器（100级）反复过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。无尘烤箱工作室为不锈钢结构。适用于触摸屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业。

半导体高温烤箱

技术参考

1. 温度范围：RT～450℃；
2. 内箱尺寸：800×600×600mm（W×H×D）、700*500*500（可选）；
3. 箱体数:2个,上下布置，可定做；
4. 内胆材质：SUS321镜面不锈钢，无缝焊接保护被加工件不受任何污染；
5. 升温时间（空载）：1.5h；
6. 降温时间（空载）：300℃-50℃降温时间1.5-3.5小时(采用水冷翅片散热器)；
7. 加热器：特制无尘加热器；
8. 温度和氧含量记录:进口无纸记录仪；
9.标准配件高效99.97%（0.3 μ ）微粒空气过滤器、微差压力剂、计时器、可调隔层板、单段式温度控制器

输出控制:
1. 配置PLC,可实现多事件输出控制气氛、水等开关和报警；
2. 控制：上下炉腔可单独控温、通气、报警保护；
3. 控温仪表：日本岛电FP93温控仪；
4. 控温段数：4×10段；控温点数：2点；
5. 超温报警点数：2点；检测点数：2点；
6. 报警保护：超温、断偶等声光报警保护；超温保护：独立感温式超温保护器；电机保护：电机过电流、水冷保护； 表
 面温升：＜30℃；